用于等离子体室中的均匀等离子体分布的等离子体源

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580034938.4

申请日：

2005-05-27

公开(公告)号：

CN101040366A

公开(公告)日：

2007-09-19

发明(设计)人：

金南宪

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

H01L2102

IPC分类号：

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

杨生平;潘士霖

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-09-19	公开	公开
2007-11-21	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-10-21	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回

共 50 条

[41] 用于等离子体室的L形等离子体约束环 [P].

陈继宏 ;

宋轶 .

中国专利 :CN112534543A ,2021-03-19

[42] 用于等离子体室的L形等离子体约束环 [P].

陈继宏 ;

宋轶 .

美国专利 :CN112534543B ,2025-05-13

[43] 双等离子体源的灯加热式等离子体腔室 [P].

克里斯托弗·S·奥尔森 ;

坎芬·莱 ;

森德·拉马默蒂 ;

约翰内斯·斯温伯格 ;

刘伟 .

中国专利 :CN103354947A ,2013-10-16

[44] 离子源、等离子体室以及调整等离子体的体积的方法 [P].

具本雄 ;

黄容奭 ;

郑经宰 .

美国专利 :CN113097048B ,2024-03-29

[45] 离子源、等离子体室以及调整等离子体的体积的方法 [P].

具本雄 ;

黄容奭 ;

郑经宰 .

中国专利 :CN109906496B ,2021-04-20

[46] 离子源、等离子体室以及调整等离子体的体积的方法 [P].

具本雄 ;

黄容奭 ;

郑经宰 .

中国专利 :CN113097048A ,2021-07-09

[47] 投射的等离子体源 [P].

D·J·霍夫曼 ;

D·卡特 ;

K·彼得森 ;

R·格里利 .

中国专利 :CN103748972A ,2014-04-23

[48] 等离子体源单元、等离子体源装置及其应用 [P].

唐永炳 ;

朱雨 ;

牛卉卉 ;

刘辉 .

中国专利 :CN106816353B ,2017-06-09

[49] 具有均匀轴向分布的等离子体的电容耦合等离子体反应器 [P].

杨江贵 ;

丹尼尔·J·霍夫曼 ;

詹姆斯·D·卡尔杜奇 ;

道格拉斯·A·小布赫贝格尔 ;

罗伯特·B·哈根 ;

马修·L·米勒 ;

江康丽 ;

杰拉尔多·A·德尔加迪奥 .

中国专利 :CN100532637C ,2006-08-23

[50] 具有直线性的等离子体出口的ECR等离子体源 [P].

约阿希姆·马伊 ;

迪特马尔·罗特 .

中国专利 :CN1849690A ,2006-10-18

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