用于等离子体室中的均匀等离子体分布的等离子体源

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580034938.4

申请日：

2005-05-27

公开(公告)号：

CN101040366A

公开(公告)日：

2007-09-19

发明(设计)人：

金南宪

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

H01L2102

IPC分类号：

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

杨生平;潘士霖

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-09-19	公开	公开
2007-11-21	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-10-21	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回

共 50 条

[21] 等离子体源及等离子体治疗装置 [P].

安头白 ;

金东逸 ;

崔银河 ;

李相学 ;

崔珍成 .

中国专利 :CN110833657A ,2020-02-25

[22] 等离子体源和等离子体处理装置 [P].

池田太郎 ;

长田勇辉 ;

宫下大幸 ;

小野田裕之 ;

川上聪 .

中国专利 :CN115696713A ,2023-02-03

[23] 控制等离子体源的离子通量分布的等离子体整形器 [P].

亚历山大·利坎斯奇 ;

彼得·F·库鲁尼西 ;

艾伦·V·海斯 .

美国专利 :CN118786506A ,2024-10-15

[24] 等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

山泽阳平 ;

舆水地盐 ;

齐藤昌司 ;

传宝一树 ;

山涌纯 ;

饭塚八城 .

中国专利 :CN102054649A ,2011-05-11

[25] 等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

岸宏树 ;

徐智洙 .

中国专利 :CN106920733B ,2017-07-04

[26] 等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

星直嗣 ;

大石哲也 ;

东堤慎司 .

中国专利 :CN109216182A ,2019-01-15

[27] 等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

山泽阳平 ;

舆水地盐 ;

齐藤昌司 ;

传宝一树 ;

山涌纯 .

中国专利 :CN102157325B ,2011-08-17

[28] 等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

大矢欣伸 ;

田边明良 ;

安田吉纪 .

中国专利 :CN104599930A ,2015-05-06

[29] 等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

大矢欣伸 ;

田边明良 ;

安田吉纪 .

中国专利 :CN102376559A ,2012-03-14

[30] 等离子体处理方法以及等离子体处理装置 [P].

小林保男 ;

川村刚平 .

中国专利 :CN100508134C ,2006-12-20

← 1 2 3 4 5 →