投射的等离子体源

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201280040741.1

申请日：

2012-06-21

公开(公告)号：

CN103748972A

公开(公告)日：

2014-04-23

发明(设计)人：

D·J·霍夫曼 D·卡特 K·彼得森 R·格里利

申请人：

申请人地址：

美国科罗拉多州

IPC主分类号：

H05H146

IPC分类号：

H05H124 H05H102 C23C1652 B01J1908

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

张伟;王英

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-05-21	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101582392712 IPC(主分类):H05H 1/46 专利申请号:2012800407411 申请日:20120621
2014-04-23	公开	公开
2018-06-29	授权	授权
2019-05-03	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):H05H 1/46 登记生效日:20190412 变更事项:专利权人变更前权利人:先进能源工业公司变更后权利人:先进工程解决方案全球控股私人有限公司变更事项:地址变更前权利人:美国科罗拉多州变更后权利人:新加坡新加坡

共 50 条

[1] 等离子体源 [P].

河利孝 .

中国专利 :CN1169094A ,1997-12-31

[2] 用于等离子体反应器的增强等离子体源 [P].

V·N·托多罗 ;

G·勒雷 ;

M·D·威尔沃斯 ;

L-S·蒋 .

中国专利 :CN105340059A ,2016-02-17

[3] 用于等离子体室中的均匀等离子体分布的等离子体源 [P].

金南宪 .

中国专利 :CN101040366A ,2007-09-19

[4] 等离子体源和等离子体处理装置 [P].

池田太郎 ;

长田勇辉 ;

宫下大幸 ;

小野田裕之 ;

川上聪 .

中国专利 :CN115696713A ,2023-02-03

[5] 等离子体源机构 [P].

乐卫平 ;

黄晓东 ;

林伟群 ;

刘涛 ;

张桂东 ;

蚁振宇 .

中国专利 :CN218217775U ,2023-01-03

[6] 等离子体源 [P].

酒井滋树 ;

高桥正人 .

中国专利 :CN1269692A ,2000-10-11

[7] 等离子体源 [P].

藤田秀树 ;

糸井骏 .

中国专利 :CN109119314A ,2019-01-01

[8] 等离子体源 [P].

井内裕 .

中国专利 :CN304546178S ,2018-03-20

[9] 等离子体源 [P].

S·克拉斯尼特泽 ;

J·哈格曼恩 .

中国专利 :CN105144338A ,2015-12-09

[10] 等离子体源 [P].

井内裕 ;

谷井正博 .

中国专利 :CN103779155B ,2014-05-07

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