等离子体源

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380065446.6

申请日：

2013-12-09

公开(公告)号：

CN105144338A

公开(公告)日：

2015-12-09

发明(设计)人：

S·克拉斯尼特泽 J·哈格曼恩

申请人：

申请人地址：

瑞士特吕巴赫

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人：

张涛;刘春元

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-12-09	公开	公开
2016-01-06	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101640707428 IPC(主分类):H01J 37/32 专利申请号:2013800654466 申请日:20131209
2021-05-25	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01J 37/32 变更事项:专利权人变更前:欧瑞康表面解决方案股份公司,特吕巴赫变更后:欧瑞康表面解决方案股份公司，普费菲孔变更事项:地址变更前:瑞士特吕巴赫变更后:瑞士特吕巴赫
2021-06-04	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01J 37/32 变更事项:专利权人变更前:欧瑞康表面解决方案股份公司，普费菲孔变更后:欧瑞康表面解决方案股份公司，普费菲孔变更事项:地址变更前:瑞士特吕巴赫变更后:瑞士普费菲孔
2017-07-14	授权	授权

共 50 条

[1] 等离子体源 [P].

S.克拉斯尼策尔 ;

D.伦迪 ;

J.哈格曼 .

中国专利 :CN103765551A ,2014-04-30

[2] 等离子体源配置 [P].

鲁塞尔·韦斯特曼 ;

埃德蒙·A·理查兹 ;

哈里哈拉克沙瓦·萨尔班加拉·海格德 ;

莱斯利·迈克尔·莱亚 .

中国专利 :CN115443516A ,2022-12-06

[3] 等离子体源 [P].

酒井滋树 ;

高桥正人 .

中国专利 :CN1269692A ,2000-10-11

[4] 等离子体源 [P].

藤田秀树 ;

糸井骏 .

中国专利 :CN109119314A ,2019-01-01

[5] 等离子体源 [P].

井内裕 .

中国专利 :CN304546178S ,2018-03-20

[6] 等离子体源 [P].

井内裕 ;

谷井正博 .

中国专利 :CN103779155B ,2014-05-07

[7] 等离子体源 [P].

加里·普劳德富特 ;

克里斯托弗·戴维·乔治 ;

保罗·埃杜拉多·利马 .

中国专利 :CN101490794A ,2009-07-22

[8] 等离子体源 [P].

维克托·贝利多-刚扎雷兹 .

中国专利 :CN104718598A ,2015-06-17

[9] 等离子体源 [P].

弗洛林·丹尼尔·多米尼克 ;

文森特·勒克莱尔 ;

埃里克·西尔伯伯格 ;

阿兰·丹尼尔 .

中国专利 :CN104996000B ,2015-10-21

[10] 等离子体源 [P].

糸井骏 ;

藤田秀树 .

中国专利 :CN108933076A ,2018-12-04

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