基于Abbe矢量成像模型的光学邻近效应校正的优化方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110268330.5

申请日：

2011-09-09

公开(公告)号：

CN102323723B

公开(公告)日：

2012-01-18

发明(设计)人：

马旭李艳秋董立松

申请人：

申请人地址：

100081 北京市海淀区中关村南大街5号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F136

代理机构：

北京理工大学专利中心 11120

代理人：

李爱英;杨志兵

法律状态：

发明专利更正

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-03-06	发明专利更正	发明专利公报更正号牌文件类型代码:1608 号牌文件序号:101524393447 卷:28 号:03 页码:无申请号:2011102683305 IPC(主分类):G03F0007200000 修正类型代码:无更正项目:说明书权利要求书误:公式中存在乱码正:公示显示正常
2012-03-14	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101197915627 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2011102683305 申请日:20110909
2021-08-20	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20110909 授权公告日:20130717 终止日期:20200909
2012-01-18	公开	公开
2013-07-17	授权	授权

共 50 条

[1] 一种基于Abbe矢量成像模型的光源-掩模交替优化方法 [P].

马旭 ;

李艳秋 ;

韩春营 ;

董立松 .

中国专利 :CN102707563B ,2012-10-03

[2] 一种基于Abbe矢量成像模型的光源-掩模同步优化方法 [P].

马旭 ;

李艳秋 ;

韩春营 ;

董立松 .

中国专利 :CN102707582B ,2012-10-03

[3] 一种基于Abbe矢量成像模型的光源-掩模混合优化方法 [P].

马旭 ;

李艳秋 ;

韩春营 ;

董立松 .

中国专利 :CN102692814B ,2012-09-26

[4] 基于Abbe矢量成像模型的光源-掩模-偏振态联合优化方法 [P].

马旭 ;

李艳秋 ;

韩春营 ;

董立松 ;

高杰 .

中国专利 :CN103631096A ,2014-03-12

[5] 一种基于Abbe矢量成像模型的相移掩膜优化方法 [P].

马旭 ;

李艳秋 ;

董立松 .

中国专利 :CN102269925B ,2011-12-07

[6] 基于Abbe矢量成像模型的非理想光刻系统ATTPSM的优化方法 [P].

马旭 ;

李艳秋 ;

董立松 .

中国专利 :CN102269924A ,2011-12-07

[7] 基于Abbe矢量成像模型的非理想光刻系统OPC的优化方法 [P].

马旭 ;

李艳秋 ;

董立松 .

中国专利 :CN102269926B ,2011-12-07

[8] 一种基于像素的光学邻近效应校正的优化方法 [P].

马旭 ;

李艳秋 .

中国专利 :CN102122111A ,2011-07-13

[9] 光学邻近效应校正的方法 [P].

廖显煌 ;

曾鼎程 ;

胡展源 .

中国专利 :CN115100047A ,2022-09-23

[10] 验证光学邻近效应校正的方法 [P].

金基盛 .

中国专利 :CN113219785A ,2021-08-06

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