基于Abbe矢量成像模型的非理想光刻系统OPC的优化方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110268328.8

申请日：

2011-09-09

公开(公告)号：

CN102269926B

公开(公告)日：

2011-12-07

发明(设计)人：

马旭李艳秋董立松

申请人：

申请人地址：

100081 北京市海淀区中关村南大街5号

IPC主分类号：

G03F136

IPC分类号：

代理机构：

北京理工大学专利中心 11120

代理人：

李爱英;杨志兵

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-12-07	公开	公开
2012-08-15	授权	授权
2012-01-25	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101174913186 IPC(主分类):G03F 1/14 专利申请号:2011102683288 申请日:20110909
2021-08-20	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 1/36 申请日:20110909 授权公告日:20120815 终止日期:20200909

共 50 条

[1] 基于Abbe矢量成像模型的非理想光刻系统ATTPSM的优化方法 [P].

马旭 ;

李艳秋 ;

董立松 .

中国专利 :CN102269924A ,2011-12-07

[2] 基于Abbe矢量成像模型获取非理想光刻系统空间像的方法 [P].

李艳秋 ;

董立松 ;

马旭 .

中国专利 :CN102323721A ,2012-01-18

[3] 基于Abbe矢量成像模型的光学邻近效应校正的优化方法 [P].

马旭 ;

李艳秋 ;

董立松 .

中国专利 :CN102323723B ,2012-01-18

[4] 一种基于Abbe矢量成像模型的光源-掩模交替优化方法 [P].

马旭 ;

李艳秋 ;

韩春营 ;

董立松 .

中国专利 :CN102707563B ,2012-10-03

[5] 一种基于Abbe矢量成像模型的光源-掩模同步优化方法 [P].

马旭 ;

李艳秋 ;

韩春营 ;

董立松 .

中国专利 :CN102707582B ,2012-10-03

[6] 一种基于Abbe矢量成像模型的光源-掩模混合优化方法 [P].

马旭 ;

李艳秋 ;

韩春营 ;

董立松 .

中国专利 :CN102692814B ,2012-09-26

[7] 基于Abbe矢量成像模型的光源-掩模-偏振态联合优化方法 [P].

马旭 ;

李艳秋 ;

韩春营 ;

董立松 ;

高杰 .

中国专利 :CN103631096A ,2014-03-12

[8] 一种基于Abbe矢量成像模型的相移掩膜优化方法 [P].

马旭 ;

李艳秋 ;

董立松 .

中国专利 :CN102269925B ,2011-12-07

[9] 基于Abbe矢量成像模型获取掩模三维矢量空间像的方法 [P].

李艳秋 ;

董立松 ;

马旭 .

中国专利 :CN102495535B ,2012-06-13

[10] 基于Abbe矢量成像模型获取掩膜空间像的方法 [P].

李艳秋 ;

董立松 ;

马旭 .

中国专利 :CN102323722B ,2012-01-18

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