共 50 条
基于Abbe矢量成像模型的非理想光刻系统OPC的优化方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201110268328.8
申请日：
2011-09-09
公开(公告)号：
CN102269926B
公开(公告)日：
2011-12-07
发明(设计)人：
马旭
李艳秋
董立松
申请人：
申请人地址：
100081 北京市海淀区中关村南大街5号
IPC主分类号：
G03F136
IPC分类号：
代理机构：
北京理工大学专利中心 11120
代理人：
李爱英;杨志兵
法律状态：
公开
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2011-12-07 | 公开 | 公开 |
| 2012-08-15 | 授权 | 授权 |
| 2012-01-25 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101174913186 IPC(主分类):G03F 1/14 专利申请号:2011102683288 申请日:20110909 |
| 2021-08-20 | 专利权的终止 | 未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 1/36 申请日:20110909 授权公告日:20120815 终止日期:20200909 |
