基于Abbe矢量成像模型的光学邻近效应校正的优化方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201110268330.5
申请日
2011-09-09
公开(公告)号
CN102323723B
公开(公告)日
2012-01-18
发明(设计)人
马旭 李艳秋 董立松
申请人
申请人地址
100081 北京市海淀区中关村南大街5号
IPC主分类号
G03F720
IPC分类号
G03F136
代理机构
北京理工大学专利中心 11120
代理人
李爱英;杨志兵
法律状态
发明专利更正
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[41]   一种基于残差图神经网络的光学邻近效应校正方法与系统 [P]. 
马旭 ;
刘景清 .
中国专利 :CN120315238A ,2025-07-15
[42]   光学邻近效应的修正方法 [P]. 
罗连波 ;
刘文东 ;
丁丽华 ;
程仁强 .
中国专利 :CN117518726A ,2024-02-06
[43]   光学邻近效应的修正方法 [P]. 
康帅 .
中国专利 :CN115453815A ,2022-12-09
[44]   修正光学邻近效应的方法 [P]. 
崔在升 .
中国专利 :CN101311825B ,2008-11-26
[45]   修正光学邻近效应的方法 [P]. 
林金隆 .
中国专利 :CN1171126C ,2002-07-31
[46]   用于电子设备显示光学邻近效应校正模型建立流程图形用户界面 [P]. 
邹燕明 .
中国专利 :CN309363346S ,2025-07-01
[47]   一种基于校正的DMD光刻成像模型的掩模优化方法 [P]. 
马旭 ;
黄潮俊 .
中国专利 :CN118131574A ,2024-06-04
[48]   光学邻近修正模型的建模方法、光学邻近修正方法 [P]. 
王雷 .
中国专利 :CN120335258A ,2025-07-18
[49]   使用光学邻近效应修正模型产生光掩模的方法 [P]. 
蔡佳君 ;
杜佳峰 .
中国专利 :CN109917615A ,2019-06-21
[50]   一种提高光学邻近效应修正模型精度的方法 [P]. 
卢意飞 .
中国专利 :CN103777460A ,2014-05-07