一种位移测量系统以及曝光设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710114465.3

申请日：

2017-02-28

公开(公告)号：

CN108508706B

公开(公告)日：

2018-09-07

发明(设计)人：

陈南曙张金贵

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G01B1102

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

屈蘅;李时云

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-09-07	公开	公开
2018-10-09	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20170228
2020-04-10	授权	授权

共 50 条

[1] 一种光学位移测量系统 [P].

徐飞鸿 .

中国专利 :CN106595495A ,2017-04-26

[2] 位移测量系统、光刻设备、位移测量方法和装置制造方法 [P].

B·A·J·卢蒂克休斯 ;

H·H·M·科克斯 ;

E·R·卢普斯特拉 ;

E·A·F·范德帕施 ;

H·K·范德舒特 .

中国专利 :CN101071276A ,2007-11-14

[3] 一种化工装置专有设备热位移测量系统 [P].

刘国付 ;

周胜平 ;

李荣娇 ;

张晓路 ;

姚磊 ;

黄秀荣 .

中国专利 :CN203184609U ,2013-09-11

[4] 一种可交互的位移测量系统 [P].

董欣 .

中国专利 :CN102749055A ,2012-10-24

[5] 一种远程位移测量系统及方法 [P].

高文武 ;

毛庆洲 ;

郭敏 ;

徐克强 ;

朱昌林 .

中国专利 :CN103940345B ,2014-07-23

[6] 位移测量系统及光刻设备 [P].

高立冬 ;

焦健 ;

袁鹏 ;

高嘉铭 ;

潘金明 .

中国专利 :CN113804112A ,2021-12-17

[7] 位移测量系统及光刻设备 [P].

高立冬 ;

焦健 ;

袁鹏 ;

高嘉铭 ;

潘金明 .

中国专利 :CN113804112B ,2024-09-06

[8] 位移测量系统及方法 [P].

郑文 ;

林恒 ;

张翔 .

中国专利 :CN109307477A ,2019-02-05

[9] 位移测量装置、位移测量系统和位移测量方法 [P].

曾有军 ;

杨峰 ;

聂义 ;

安文慧 .

中国专利 :CN119197278A ,2024-12-27

[10] 绝对式直线位移传感器、位移测量系统和位移测量方法 [P].

陈自然 ;

彭凯 ;

刘小康 ;

蒲红吉 ;

于治成 ;

欧阳辉 .

中国专利 :CN119197280A ,2024-12-27

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