共 50 条
半导体装置、半导体模块以及半导体装置的制造方法
被引:0
专利类型:
发明
申请号:
CN200510097658.X
申请日:
2005-08-31
公开(公告)号:
CN1744302A
公开(公告)日:
2006-03-08
发明(设计)人:
塚本弘昌
藤田和弥
安留高志
申请人:
申请人地址:
日本大阪市
IPC主分类号:
H01L2302
IPC分类号:
H01L2714
代理机构:
中国专利代理(香港)有限公司
代理人:
浦柏明;刘宗杰
法律状态:
专利权的终止
国省代码:
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法律状态
法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
2020-08-18 | 专利权的终止 | 未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 23/02 申请日:20050831 授权公告日:20080702 终止日期:20190831 |
2006-03-08 | 公开 | 公开 |
2006-05-03 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 |
2008-07-02 | 授权 | 授权 |