薄膜厚度测量装置和薄膜厚度测量方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510090086.X

申请日：

2025-01-21

公开(公告)号：

CN120351872A

公开(公告)日：

2025-07-22

发明(设计)人：

张原赫李洙莲李孝善咸守娥

申请人：

三星显示有限公司

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

G01B15/02

IPC分类号：

代理机构：

北京德琦知识产权代理有限公司 11018

代理人：

史迎雪;康泉

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-22	公开	公开

共 50 条

[21] 晶圆薄膜厚度测量方法及设备 [P].

周惠言 ;

孟炜涛 ;

孙昕宇 ;

蒋继乐 ;

黄银国 ;

葛乃义 .

中国专利 :CN119468944A ,2025-02-18

[22] 厚度测量装置及厚度测量方法 [P].

丰田一贵 ;

泽村义巳 .

日本专利 :CN114325734B ,2025-02-25

[23] 厚度测量装置及厚度测量方法 [P].

D·克雷坦 .

中国专利 :CN104619264A ,2015-05-13

[24] 厚度测量装置及厚度测量方法 [P].

丰田一贵 ;

泽村义巳 .

中国专利 :CN114325734A ,2022-04-12

[25] 厚度测量装置及厚度测量方法 [P].

丰田一贵 ;

泽村义巳 .

中国专利 :CN107037437B ,2017-08-11

[26] 膜厚度测量装置和膜厚度测量方法 [P].

高柳顺 ;

大竹秀幸 ;

相京秀幸 ;

藤沢泰成 ;

锅岛淳男 .

中国专利 :CN105403178A ,2016-03-16

[27] 硅片厚度测量装置和硅片厚度测量方法 [P].

吴金隆 .

中国专利 :CN117352409A ,2024-01-05

[28] 基于双频干涉原理的薄膜厚度测量方法 [P].

谢昊 ;

郭天太 ;

王浩 .

中国专利 :CN115451842A ,2022-12-09

[29] 一种薄膜厚度测量方法及系统 [P].

程菊 ;

边心田 ;

雷枫 .

中国专利 :CN106441125A ,2017-02-22

[30] 一种薄膜厚度测量装置 [P].

张晓龙 ;

杜永胜 ;

刘国标 ;

董建法 ;

宋健 .

中国专利 :CN114440778A ,2022-05-06

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