一种无掩膜光学双面光刻装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110469869.0

申请日：

2021-04-29

公开(公告)号：

CN113341658B

公开(公告)日：

2024-06-25

发明(设计)人：

袁翔刘炳林施泽平吴闻彬

申请人：

华东师范大学

申请人地址：

200241 上海市闵行区东川路500号

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

代理机构：

上海蓝迪专利商标事务所(普通合伙) 31215

代理人：

徐筱梅;张翔

法律状态：

授权

国省代码：

上海市市辖区

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法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-06-25	授权	授权

共 50 条

[41] 一种低成本简易制作光刻掩膜的方法 [P].

赵兴中 ;

刘侃 ;

刘威 ;

韩宏伟 .

中国专利 :CN1776523A ,2006-05-24

[42] 一种光刻机掩膜板真空吸盘 [P].

徐卫星 ;

马凯疆 .

中国专利 :CN118605090A ,2024-09-06

[43] 一种无掩膜制备氧化锌阵列的方法 [P].

王静 ;

应云帆 ;

王少青 ;

胡旭涛 ;

张长春 ;

张翼 .

中国专利 :CN118308687B ,2024-11-08

[44] 一种无掩膜制备氧化锌阵列的方法 [P].

王静 ;

应云帆 ;

王少青 ;

胡旭涛 ;

张长春 ;

张翼 .

中国专利 :CN118308687A ,2024-07-09

[45] 一种适用于半导体工艺的斜面光刻胶掩膜的制备方法 [P].

刘恒 ;

韩超 ;

迟奔奔 ;

邢雅丽 .

中国专利 :CN119644668A ,2025-03-18

[46] 一种基于周期堆迭的矩形超透镜与相移DMD的无掩膜光刻光学系统 [P].

郭小伟 ;

向志强 ;

潘伟凡 ;

杜良广 .

中国专利 :CN117348352A ,2024-01-05

[47] 一种掩膜板张网压合装置 [P].

方志伟 .

中国专利 :CN222411786U ,2025-01-28

[48] 一种数字掩膜投影光刻的多重曝光方法 [P].

赵圆圆 ;

段宣明 ;

陈经涛 .

中国专利 :CN112596347B ,2024-03-15

[49] 一种光刻机掩膜版盒的储存柜 [P].

牛立久 ;

张雪奎 ;

刘增增 ;

周一雷 ;

徐金鑫 .

中国专利 :CN216469320U ,2022-05-10

[50] 一种数字掩膜投影光刻的多重曝光方法 [P].

赵圆圆 ;

段宣明 ;

陈经涛 .

中国专利 :CN112596347A ,2021-04-02

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