光场成像系统及光场成像方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202011404881.5
申请日
2020-12-02
公开(公告)号
CN112702474B
公开(公告)日
2021-04-23
发明(设计)人
吕南方 张存林 左剑
申请人
申请人地址
100048 北京市海淀区西三环北路105号
IPC主分类号
H04N514
IPC分类号
H04N5232 G03B1502
代理机构
北京鸿元知识产权代理有限公司 11327
代理人
李平;陈英俊
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
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