共 50 条
光场成像系统及光场成像方法
被引:0
专利类型:
发明
申请号:
CN202011404881.5
申请日:
2020-12-02
公开(公告)号:
CN112702474B
公开(公告)日:
2021-04-23
发明(设计)人:
吕南方
张存林
左剑
申请人:
申请人地址:
100048 北京市海淀区西三环北路105号
IPC主分类号:
H04N514
IPC分类号:
H04N5232
G03B1502
代理机构:
北京鸿元知识产权代理有限公司 11327
代理人:
李平;陈英俊
法律状态:
授权
国省代码:
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法律状态
法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
2022-12-06 | 授权 | 授权 |
2021-05-11 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H04N 5/14 申请日:20201202 |
2021-04-23 | 公开 | 公开 |