一种光学掩膜及基于光学掩膜的太阳敏感器

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410256172.5

申请日：

2014-06-10

公开(公告)号：

CN103983265A

公开(公告)日：

2014-08-13

发明(设计)人：

樊巧云高鑫洋张广军

申请人：

申请人地址：

100083 北京市海淀区学院路37号

IPC主分类号：

G01C2102

IPC分类号：

G01C2500

代理机构：

北京派特恩知识产权代理有限公司 11270

代理人：

张颖玲;王黎延

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-08-13	公开	公开
2019-09-27	授权	授权
2017-03-01	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101705996481 IPC(主分类):G01C 21/02 专利申请号:2014102561725 申请日:20140610

共 50 条

[1] 光学掩膜板及基于光学掩膜板的光学掩膜基板的制备方法 [P].

刘永 ;

张尚明 ;

马小叶 ;

刘国冬 ;

张东徽 .

中国专利 :CN108255012A ,2018-07-06

[2] APS太阳敏感器可识别多孔掩膜板 [P].

崔坚 ;

张建福 ;

余成武 ;

莫亚男 ;

王立 ;

刘江 .

中国专利 :CN101726994A ,2010-06-09

[3] 一种光学掩膜版夹持装置 [P].

李慧 ;

王礼琴 ;

肖学刚 ;

邱俊 .

中国专利 :CN221261500U ,2024-07-02

[4] 一种掩膜版上光学膜对中性测量装置 [P].

孙多卫 ;

刘嘉俊 .

中国专利 :CN218099924U ,2022-12-20

[5] 一种无掩膜光学双面光刻装置 [P].

袁翔 ;

刘炳林 ;

施泽平 ;

吴闻彬 .

中国专利 :CN113341658B ,2024-06-25

[6] 一种无掩膜光学双面光刻装置 [P].

袁翔 ;

刘炳林 ;

施泽平 ;

吴闻彬 .

中国专利 :CN113341658A ,2021-09-03

[7] 多晶硅光学掩膜制绒工艺 [P].

贾积凯 ;

孙杰 ;

潘鹏飞 .

中国专利 :CN102412338B ,2012-04-11

[8] 一种掩膜版检测装置及方法、掩膜版库设备 [P].

唐文力 ;

祝玥华 ;

吴钱忠 ;

朱骏宇 ;

陈淮阳 .

中国专利 :CN110941145B ,2021-07-30

[9] 防尘薄膜框架、光学掩膜版及其安装方法 [P].

朱棋锋 .

中国专利 :CN103246157A ,2013-08-14

[10] 一种包含不同透光性的新型光学掩膜版 [P].

张振 ;

刘佳擎 .

中国专利 :CN111367142A ,2020-07-03

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