一种无掩膜光学双面光刻装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110469869.0

申请日：

2021-04-29

公开(公告)号：

CN113341658B

公开(公告)日：

2024-06-25

发明(设计)人：

袁翔刘炳林施泽平吴闻彬

申请人：

华东师范大学

申请人地址：

200241 上海市闵行区东川路500号

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

代理机构：

上海蓝迪专利商标事务所(普通合伙) 31215

代理人：

徐筱梅;张翔

法律状态：

授权

国省代码：

上海市市辖区

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法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-06-25	授权	授权

共 50 条

[1] 一种无掩膜光学双面光刻装置 [P].

袁翔 ;

刘炳林 ;

施泽平 ;

吴闻彬 .

中国专利 :CN113341658A ,2021-09-03

[2] 一种无掩膜光学双面光刻装置 [P].

袁翔 ;

刘炳林 ;

施泽平 ;

吴闻彬 .

中国专利 :CN214795566U ,2021-11-19

[3] 双面光刻装置以及双面光刻装置中掩膜与工件的对准方法 [P].

河东和彦 ;

屋宜健勇 .

中国专利 :CN107436538B ,2017-12-05

[4] 双面光刻装置 [P].

王华 ;

陈志特 .

中国专利 :CN220913495U ,2024-05-07

[5] 一种双面光刻装置 [P].

苗任忠 .

中国专利 :CN202600360U ,2012-12-12

[6] 一种无掩膜光刻校准方法 [P].

张伟华 ;

陈慕龄 .

中国专利 :CN114200781B ,2022-03-18

[7] 一种无掩膜投影光刻系统 [P].

游剑锋 ;

李建兵 ;

陈国华 .

中国专利 :CN109557767A ,2019-04-02

[8] 一种双面光刻的光刻系统 [P].

张飞飞 ;

李伟成 ;

张雷 .

中国专利 :CN217360551U ,2022-09-02

[9] 一种新型无掩膜光刻机 [P].

彭劲 .

中国专利 :CN117420739A ,2024-01-19

[10] 一种双面光刻的光刻系统及光刻方法 [P].

张飞飞 ;

李伟成 ;

张雷 .

中国专利 :CN115128908A ,2022-09-30

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