使用平面几何结构的光栅设备进行X射线相衬成像和暗场成像的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201180032532.8

申请日：

2011-04-04

公开(公告)号：

CN102971620A

公开(公告)日：

2013-03-13

发明(设计)人：

克里斯蒂安·大卫马可·斯坦帕诺尼

申请人：

申请人地址：

瑞士菲利根

IPC主分类号：

G01N2304

IPC分类号：

G21K102 A61B600

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

朱胜;陈炜

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-06-19	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101476737142 IPC(主分类):G01N 23/04 专利申请号:2011800325328 申请日:20110404
2013-03-13	公开	公开
2016-11-23	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101741824177 IPC(主分类):G01N 23/04 专利申请号:2011800325328 申请公布日:20130313

共 50 条

[1] 用于X射线相衬和/或暗场成像的衍射光栅 [P].

T·克勒 .

中国专利 :CN111051863A ,2020-04-21

[2] X射线光栅相衬成像系统及方法 [P].

康克军 ;

黄志峰 ;

张丽 ;

陈志强 ;

李元景 ;

刘以农 ;

赵自然 ;

刑宇翔 .

中国专利 :CN101532969B ,2009-09-16

[3] 用于X射线光栅微分相衬成像的X射线源 [P].

牛憨笨 ;

李冀 ;

黄建衡 .

中国专利 :CN104034741A ,2014-09-10

[4] 用于X射线相衬成像的设备和方法 [P].

J.弗罗伊登贝格尔 .

中国专利 :CN105534535B ,2016-05-04

[5] 对相衬X射线成像和/或暗场X射线成像中的X射线入射条纹图样的X射线探测 [P].

R·斯特德曼布克 ;

E·勒斯尔 ;

W·吕腾 .

中国专利 :CN109863424A ,2019-06-07

[6] 使用光子计数事件进行相衬成像的x射线成像系统 [P].

马特斯·丹尼尔松 ;

克里斯特尔·桑德伯格 .

:CN113167917B ,2024-03-12

[7] 使用光子计数事件进行相衬成像的x射线成像系统 [P].

马特斯·丹尼尔松 ;

克里斯特尔·桑德伯格 .

中国专利 :CN113167917A ,2021-07-23

[8] X射线相衬成像的方法和系统 [P].

肖体乔 ;

陈敏 ;

徐洪杰 ;

杜国浩 .

中国专利 :CN1725000A ,2006-01-25

[9] 使用具有不等的狭缝宽度的光栅的X射线相衬成像 [P].

向出大平 .

中国专利 :CN103052876A ,2013-04-17

[10] 用于X射线的源光栅、用于X射线相衬图像的成像装置和X射线计算层析成像系统 [P].

伊藤英之助 ;

市村好克 ;

中村高士 ;

今田彩 .

中国专利 :CN102047344B ,2011-05-04

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