一种红外探测器响应率非均匀性校正方法及系统

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202411611961.6
申请日
2024-11-13
公开(公告)号
CN119533679A
公开(公告)日
2025-02-28
发明(设计)人
张轶 游聪娅 刘铭 刘世光 何温
申请人
中国电子科技集团公司第十一研究所
申请人地址
100015 北京市朝阳区酒仙桥路4号
IPC主分类号
G01J5/80
IPC分类号
代理机构
工业和信息化部电子专利中心 11010
代理人
袁鸿
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
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[23]   一种非制冷红外焦平面探测器的非均匀性无挡校正方法 [P]. 
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[24]   红外热像仪非均匀性校正方法及校正系统 [P]. 
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