对相衬X射线成像和/或暗场X射线成像中的X射线入射条纹图样的X射线探测

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201880003957.8
申请日
2018-08-13
公开(公告)号
CN109863424A
公开(公告)日
2019-06-07
发明(设计)人
R·斯特德曼布克 E·勒斯尔 W·吕腾
申请人
申请人地址
荷兰艾恩德霍芬
IPC主分类号
G01T120
IPC分类号
代理机构
永新专利商标代理有限公司 72002
代理人
孟杰雄;王英
法律状态
授权
国省代码
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