共 50 条
对相衬X射线成像和/或暗场X射线成像中的X射线入射条纹图样的X射线探测
被引:0
专利类型:
发明
申请号:
CN201880003957.8
申请日:
2018-08-13
公开(公告)号:
CN109863424A
公开(公告)日:
2019-06-07
发明(设计)人:
R·斯特德曼布克
E·勒斯尔
W·吕腾
申请人:
申请人地址:
荷兰艾恩德霍芬
IPC主分类号:
G01T120
IPC分类号:
代理机构:
永新专利商标代理有限公司 72002
代理人:
孟杰雄;王英
法律状态:
授权
国省代码:
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法律状态
法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
2020-05-12 | 授权 | 授权 |
2019-06-07 | 公开 | 公开 |
2019-07-02 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G01T 1/20 申请日:20180813 |