共 50 条
基于线迹扫描二维近场成像的反向散射截面测量方法
被引:0
专利类型:
发明
申请号:
CN201410432104.X
申请日:
2014-08-28
公开(公告)号:
CN104199026B
公开(公告)日:
2014-12-10
发明(设计)人:
吕晓德
邢曙光
丁赤飚
林宽
申请人:
申请人地址:
100190 北京市海淀区北四环西路19号
IPC主分类号:
G01S1389
IPC分类号:
G06F1900
G01S740
G01S736
代理机构:
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人:
曹玲柱
法律状态:
实质审查的生效
国省代码:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
2015-01-07 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101594583968 IPC(主分类):G01S 13/89 专利申请号:201410432104X 申请日:20140828 |
2014-12-10 | 公开 | 公开 |
2016-08-24 | 授权 | 授权 |