有效的邻近效应校正方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200480011095.1

申请日：

2004-04-13

公开(公告)号：

CN100423011C

公开(公告)日：

2006-05-31

发明(设计)人：

克里斯托弗·皮拉特

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

G06F1750

IPC分类号：

G06K900 G03C500

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

徐谦;杨红梅

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-04-05	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G06F 17/50 申请日:20040413 授权公告日:20081001 终止日期:20180413
2008-10-01	授权	授权
2006-07-26	实质审查的生效	实质审查的生效
2006-05-31	公开	公开

共 50 条

[1] 工艺邻近效应校正方法和工艺邻近效应校正设备 [P].

朴大宁 ;

高汀勋 ;

金成烈 ;

金铃九 ;

金泰勋 ;

金贤中 ;

李泳周 .

韩国专利 :CN117666274A ,2024-03-08

[2] 控制邻近效应校正的方法 [P].

P·胡德科 ;

D·贝耶 .

中国专利 :CN1734706A ,2006-02-15

[3] 一种光刻系统掩模邻近效应校正方法 [P].

高松波 ;

李艳秋 .

中国专利 :CN101144976A ,2008-03-19

[4] 光学邻近效应校正的方法 [P].

廖显煌 ;

曾鼎程 ;

胡展源 .

中国专利 :CN115100047A ,2022-09-23

[5] 光学邻近校正模型的校正方法 [P].

王辉 ;

时雪龙 .

中国专利 :CN103631085A ,2014-03-12

[6] 光学邻近效应的修正方法 [P].

罗连波 ;

刘文东 ;

丁丽华 ;

程仁强 .

中国专利 :CN117518726A ,2024-02-06

[7] 光学邻近效应的修正方法 [P].

康帅 .

中国专利 :CN115453815A ,2022-12-09

[8] 验证光学邻近效应校正的方法 [P].

金基盛 .

中国专利 :CN113219785A ,2021-08-06

[9] 一种环形图案的光学邻近效应校正方法 [P].

杨尚 ;

韦亚一 ;

张利斌 .

中国专利 :CN112859536A ,2021-05-28

[10] 一种层次化的光学邻近效应校正方法 [P].

严晓浪 ;

史峥 ;

张宇孚 .

中国专利 :CN101013271A ,2007-08-08

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