R&D风险、创新环境与软件最优专利期限研究

被引:29
作者
董雪兵
王争
机构
[1] 浙江大学经济学院
[2] 浙江大学经济学院 邮政编码
关键词
软件专利; 最优专利期限; 创新成功概率; 创新效率;
D O I
暂无
中图分类号
F416.672 []; F204 [科学技术管理];
学科分类号
020205 ; 0202 ; 020201 ;
摘要
本文在Gilbert和Shapiro(1990)的分析框架基础上,借用社会福利贴现值的模型,并分别引入创新成功概率和创新效率来研究软件专利保护的最优期限问题。认为在给定回报率条件下对于具有不同投资风险、不同创新成功率的行业,设定专利保护期限的效果可能不同;随着行业创新效率的增加,最优专利期限首先增加,但是在达到最大值后开始趋于减小,因此有必要根据具体的产业基本特征尤其是行业创新效率的高低,分别设定不同的专利期限并给予不同的专利保护。最后本文还进行了简要的应用分析。
引用
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[1]   最优专利制度研究 [J].
潘士远 .
经济研究, 2005, (12) :113-118
[2]   Patents in a model of endogenous growth [J].
O'Donoghue, T ;
Zweimüller, J .
JOURNAL OF ECONOMIC GROWTH, 2004, 9 (01) :81-123
[3]   Innovation and imitation under imperfect patent protection [J].
Takalo, T .
JOURNAL OF ECONOMICS, 1998, 67 (03) :229-241
[4]  
Standing on the Shoulders of Giants: Cumulative Research and the Patent Law[J] . Suzanne Scotchmer.The Journal of Economic Perspectives . 1991 (1)
[5]  
The Economics of Invention Incentives: Patents, Prizes, and Research Contracts[J] . Brian D. Wright.The American Economic Review . 1983 (4)
[6]  
Nordhaus' Theory of Optimal Patent Life: A Geometric Reinterpretation[J] . F. M. Scherer.The American Economic Review . 1972 (3)
[7]  
Patent Breadth,Patent Life,and the Pace of Technological Progress .2 O Donoghue,T.S.Scotchmer,J.Thisse. Journal ofEconomics and Management Strategy . 1998