高管团队背景特征、高管激励与企业R&D投入——来自A股上市高新技术企业的数据分析

被引：64

作者：

何霞 ^{[1
,2
]}

苏晓华 ^{[2
]}

机构：

[1] 广州番禺职业技术学院

[2] 暨南大学

来源：

科技管理研究 | 2012年 / 32卷 / 06期

关键词：

高管团队; 高层梯队理论; TMT背景特征; 高管激励; 企业R&D投入;

D O I：

暂无

中图分类号：

F276.44 [高新技术企业]; F224 [经济数学方法];

学科分类号：

1202 ; 120202 ; 0701 ; 070104 ;

摘要：

以沪深两市105家高新技术上市企业为研究样本,选取衡量高管团队背景特征的六项指标、高管激励的三项指标及企业R&D投入的两项指标,构建高管团队背景特征、高管激励与企业R&D投入的调节效应模型。研究结果表明:(1)高管团队教育程度和专业背景与企业R&D的人力资源投入水平显著正相关;职能背景与企业R&D经费投入水平显著正相关;而高管团队年龄与企业R&D的经费投入水平显著负相关。(2)高管薪酬激励和股权激励正向促进了企业的R&D投入水平。(3)高管股权激励在高管团队年龄和企业R&D经费投入的之间关系上起到了重要的调节作用;高管晋升激励在高管团队性别和企业R&D人力资源投入之间的关系上发挥着重要的调节作用。

引用

页码：100 / 108

页数：9

共 8 条

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