ROOM-TEMPERATURE INTERFACIAL REACTION IN AU-SEMICONDUCTOR SYSTEMS

被引：159

作者：

HIRAKI, A ^{[1
]}

SHUTO, K ^{[1
]}

KIM, S ^{[1
]}

KAMMURA, W ^{[1
]}

IWAMI, M ^{[1
]}

机构：

[1] OSAKA UNIV,DEPT ELECT ENGN,SUITA,OSAKA 565,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.89799

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：611 / 612

页数：2

共 4 条

CHANG, CC .

HIRAKI, A ;

MAYER, JW ;

LUGUJJO, E .

NAKASHIMA, K ;

IWAMI, M ;

HIRAKI, A .

[4] DIFFUSE INTERFACE IN SI (SUBSTRATE)-AU (EVAPORATED FILM) SYSTEM [J].

NARUSAWA, T ;

KOMIYA, S ;

HIRAKI, A .