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光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510706877.0
申请日：
2025-05-29
公开(公告)号：
CN120215202A
公开(公告)日：
2025-06-27
发明(设计)人：
请求不公布姓名
申请人：
华芯程（杭州）科技有限公司
申请人地址：
310000 浙江省杭州市余杭区良渚街道网周路99号1幢22层2208室
IPC主分类号：
G03F1/36
IPC分类号：
G03F7/20
代理机构：
深圳市嘉勤知识产权代理有限公司 44651
代理人：
王敏生
法律状态：
公开
国省代码：
山西省 临汾市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-06-27 公开 公开
2025-07-15 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/36申请日:20250529
2025-08-05 授权 授权
共 50 条
[1]   光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备 [P]. 
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN120215202B ,2025-08-05
[2]   光学邻近效应校正方法、系统、电子设备及存储介质 [P]. 
李雪梅 ;
何大权 ;
陈善鹏 .
中国专利 :CN120233645A ,2025-07-01
[3]   建立光学邻近效应修正模型的方法、电子设备和存储介质 [P]. 
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN117950280A ,2024-04-30
[4]   建立光学邻近效应修正模型的方法、电子设备和存储介质 [P]. 
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN117950280B ,2024-06-25
[5]   光学邻近效应修正方法 [P]. 
许征 ;
孟鸿林 ;
储志浩 .
中国专利 :CN120469147A ,2025-08-12
[6]   光学邻近修正方法、装置、电子设备和存储介质 [P]. 
王茂林 ;
李文章 .
中国专利 :CN114488721A ,2022-05-13
[7]   光学邻近修正方法、系统、版图、电子设备、存储介质 [P]. 
刘蕊华 ;
李福 ;
曹清晨 .
中国专利 :CN120178589A ,2025-06-20
[8]   光学邻近效应修正方法及其修正系统 [P]. 
乔彦辉 ;
王丹 ;
于世瑞 .
中国专利 :CN110456617A ,2019-11-15
[9]   光学邻近校正方法、电子设备及存储介质 [P]. 
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN118131581A ,2024-06-04
[10]   光学邻近校正方法、电子设备及存储介质 [P]. 
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN118131581B ,2024-08-02
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