共 50 条
大视场摆扫二维像移补偿双通道成像仪光学系统
被引:0
专利类型:
实用新型
申请号:
CN201620030233.0
申请日:
2016-01-13
公开(公告)号:
CN205539710U
公开(公告)日:
2016-08-31
发明(设计)人:
况耀武
舒嵘
何志平
亓洪兴
侯佳
申请人:
申请人地址:
200083 上海市虹口区玉田路500号
IPC主分类号:
G02B2700
IPC分类号:
G02B1708
代理机构:
上海新天专利代理有限公司 31213
代理人:
郭英
法律状态:
避免重复授权放弃专利权
国省代码:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
2017-10-13 | 避免重复授权放弃专利权 | 避免重复授予专利权 号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101760721234 IPC(主分类):G02B 27/00 专利号:ZL2016200302330 申请日:20160113 授权公告日:20160831 放弃生效日:20171013 |
2016-08-31 | 授权 | 授权 |