共 50 条
一种非制冷红外焦平面的自适应非均匀校正方法
被引:0
专利类型:
发明
申请号:
CN202010794345.4
申请日:
2020-08-10
公开(公告)号:
CN111932478A
公开(公告)日:
2020-11-13
发明(设计)人:
贺明
申请人:
申请人地址:
100094 北京市海淀区北清路81号一区4号楼9层901室
IPC主分类号:
G06T500
IPC分类号:
G06T540
G06F1718
代理机构:
北京正华智诚专利代理事务所(普通合伙) 11870
代理人:
李林合
法律状态:
公开
国省代码:
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法律状态
法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
2020-11-13 | 公开 | 公开 |
2021-02-26 | 著录事项变更 | 著录事项变更 IPC(主分类):G06T 5/00 变更事项:申请人 变更前:国科天成(北京)科技有限公司 变更后:国科天成科技股份有限公司 变更事项:地址 变更前:100094 北京市海淀区北清路81号一区4号楼9层901室 变更后:100094 北京市海淀区北清路81号一区4号楼9层901室 |
2020-12-01 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G06T 5/00 申请日:20200810 |
2022-05-06 | 发明专利申请公布后的驳回 | 发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G06T 5/00 申请公布日:20201113 |