一种非制冷红外焦平面的自适应非均匀校正方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202010794345.4
申请日
2020-08-10
公开(公告)号
CN111932478A
公开(公告)日
2020-11-13
发明(设计)人
贺明
申请人
申请人地址
100094 北京市海淀区北清路81号一区4号楼9层901室
IPC主分类号
G06T500
IPC分类号
G06T540 G06F1718
代理机构
北京正华智诚专利代理事务所(普通合伙) 11870
代理人
李林合
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]   非制冷红外焦平面读出电路及校正方法 [P]. 
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吴高军 ;
范延军 ;
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[2]   一种短波红外焦平面自适应非均匀校正算法 [P]. 
周津同 .
中国专利 :CN108225571A ,2018-06-29
[3]   一种短波红外焦平面自适应非均匀校正算法 [P]. 
周津同 .
中国专利 :CN108225570A ,2018-06-29
[4]   基于Wiener滤波理论的非制冷红外焦平面非均匀校正算法 [P]. 
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[5]   一种红外焦平面非均匀性校正方法 [P]. 
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[6]   一种非制冷红外焦平面阵列非均匀性校正方法 [P]. 
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[7]   基于总变分的自适应红外焦平面非均匀性校正方法 [P]. 
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[8]   一种非制冷红外焦平面的读出电路 [P]. 
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[9]   凝视红外焦平面探测器自适应非均匀性校正方法 [P]. 
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[10]   一种非制冷红外焦平面探测器的非均匀性无挡校正方法 [P]. 
路璐 ;
赵勋 ;
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