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生成电路版图图案的方法、设备和计算机可读存储介质

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010413097.4
申请日：
2020-05-15
公开(公告)号：
CN111611761A
公开(公告)日：
2020-09-01
发明(设计)人：
不公告发明人
申请人：
申请人地址：
230088 安徽省合肥市高新区创新大道2800号创新产业园二期J2C栋13楼
IPC主分类号：
G06F30392
IPC分类号：
G06F30398
代理机构：
北京市金杜律师事务所 11256
代理人：
黄倩
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2020-10-20 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 30/392 申请日:20200515
2020-09-01 公开 公开
共 50 条
[1]   生成电路版图的方法、设备和计算机可读存储介质 [P]. 
不公告发明人 .
中国专利 :CN112580293A ,2021-03-30
[2]   生成电路版图的方法、设备和计算机可读存储介质 [P]. 
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN112580293B ,2024-08-30
[3]   用于构建版图图案集的方法、设备和计算机可读存储介质 [P]. 
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN111597768B ,2024-01-19
[4]   用于构建版图图案集的方法、设备和计算机可读存储介质 [P]. 
不公告发明人 .
中国专利 :CN111597768A ,2020-08-28
[5]   用于确定电路版图的方法、设备和计算机可读存储介质 [P]. 
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN112561783B ,2024-11-12
[6]   用于确定电路版图的方法、设备和计算机可读存储介质 [P]. 
不公告发明人 .
中国专利 :CN112561783A ,2021-03-26
[7]   用于生成电路版图图案的方法、设备和存储介质 [P]. 
不公告发明人 .
中国专利 :CN111597769A ,2020-08-28
[8]   分析集成电路版图的方法、设备和计算机可读存储介质 [P]. 
不公告发明人 .
中国专利 :CN113822006A ,2021-12-21
[9]   处理集成电路版图的方法、设备和计算机可读存储介质 [P]. 
不公告发明人 .
中国专利 :CN113779921B ,2021-12-10
[10]   版图的布局方法、版图、电子设备和计算机可读存储介质 [P]. 
陈苗苗 .
中国专利 :CN115329706A ,2022-11-11
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