光学检验系统以及其中使用的辐射光源

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200380104357.4
申请日
2003-11-26
公开(公告)号
CN1717582A
公开(公告)日
2006-01-04
发明(设计)人
M·哈维拉格 D·C·施拉姆 R·A·H·恩格恩 A·H·J·范登布兰德特
申请人
申请人地址
荷兰艾恩德霍芬
IPC主分类号
G01N23225
IPC分类号
H01L2166 G01B1508
代理机构
中国专利代理(香港)有限公司
代理人
王岳;王忠忠
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
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