共 50 条
一种红外焦平面阵列非均匀性自适应校正方法
被引:0
专利类型:
发明
申请号:
CN200710051919.3
申请日:
2007-04-19
公开(公告)号:
CN100535618C
公开(公告)日:
2007-09-19
发明(设计)人:
张天序
桑红石
钟胜
施长城
刘慧娜
李洁珺
周泱
袁雅婧
申请人:
申请人地址:
430074湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
IPC主分类号:
G01J100
IPC分类号:
G01J102
G01M1102
代理机构:
华中科技大学专利中心
代理人:
方 放
法律状态:
授权
国省代码:
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法律状态
法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
2009-09-02 | 授权 | 授权 |
2018-05-04 | 专利权的终止 | 未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01J 1/00 申请日:20070419 授权公告日:20090902 终止日期:20170419 |
2007-09-19 | 公开 | 公开 |
2007-11-14 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 |