一种红外焦平面阵列非均匀性自适应校正方法

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专利类型
发明
申请号
CN200710051919.3
申请日
2007-04-19
公开(公告)号
CN100535618C
公开(公告)日
2007-09-19
发明(设计)人
张天序 桑红石 钟胜 施长城 刘慧娜 李洁珺 周泱 袁雅婧
申请人
申请人地址
430074湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
IPC主分类号
G01J100
IPC分类号
G01J102 G01M1102
代理机构
华中科技大学专利中心
代理人
方 放
法律状态
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国省代码
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共 50 条
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