STABILIZED TANTALUM DIFFUSION BARRIER FOR GOLD METALLIZATION SYSTEM

被引：7

作者：

CHRISTOU, A ^{[1
]}

DAY, HM ^{[1
]}

机构：

[1] USN, RES LAB, WASHINGTON, DC 20375 USA

来源：

关键词：

D O I：

10.1007/BF02654544

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：25 / 35

页数：11

共 7 条

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