OXIDATION OF SPUTTERED MOLYBDENUM SILICIDE THIN-FILMS

被引：29

作者：

INOUE, T

KOIKE, K

机构：

来源：

APPLIED PHYSICS LETTERS | 1978年 / 33卷 / 09期

关键词：

D O I：

10.1063/1.90543

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：826 / 827

页数：2

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共 5 条

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