DIRECT HIGH-RESOLUTION EXCIMER LASER PHOTOETCHING

被引：36

作者：

RICE, S

JAIN, K

机构：

来源：

APPLIED PHYSICS A-MATERIALS SCIENCE & PROCESSING | 1984年 / 33卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1007/BF00618755

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：195 / 198

页数：4

共 7 条

[1]

ANDREW J, 1983, C LASERS ELECTROOPTI

JAIN, K ;

WILLSON, CG ;

LIN, BJ .

[3] ULTRAFAST DEEP UV LITHOGRAPHY WITH EXCIMER LASERS [J].

JAIN, K ;

WILLSON, CG ;

LIN, BJ .

ELECTRON DEVICE LETTERS, 1982, 3 (03) :53-55

[4]

JAIN K, UNPUB IBM TECH DISC

[5] DEEP UV LITHOGRAPHY [J].

LIN, BJ .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1975, 12 (06) :1317-1320

SRINIVASAN, R ;

LEIGH, WJ .

SRINIVASAN, R ;

MAYNEBANTON, V .