光学光刻现状及设备市场

被引：8

作者：

童志义

机构：

[1] 信息产业部电子第四十五研究所甘肃平凉

来源：

电子工业专用设备 | 2002年 / 01期

关键词：

光学光刻; 技术现状; 设备市场; 制造商;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN405.7 [];

学科分类号：

080903 ; 1401 ;

摘要：

概述了当前光学光刻技术现状及今后发展目标 ,并结合设备市场介绍了ASML、Canon、Nikon 3大设备制造商概况。

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共 2 条

[1]

ITRS Lithography Roadmap. Harry Levinson. Solid State Technology . 2002

[2]

A Look at Lithography. SEMI WEST Show Report. Solid State Technology . 2001