信息技术领域专利维持状况及影响因素研究

探讨将生存分析应用至专利维持研究的适用性和有效性。运用生存分析中的生存函数和cox分层回归模型,针对中国1985-2009年间信息技术领域发明专利数据,确定领域专利维持时间分布、比较不同国别申请人维持状况,并量化影响专利维持的风险因素。研究发现:信息技术领域专利的中位生存期约为10.5年,仅有接近1%的专利维持到届满;美国申请人专利维持情况最好,中国申请人的维持时长总体偏低,但有部分专利始终能够得到市场的认可;申请授权时间、发明人数量、申请人数量、申请书页数对专利维持的影响依次降低。