国际研发和基础研究强度的发展轨迹及其启示

被引：58

作者：

曾国屏

谭文华

机构：

[1] 清华大学科学技术与社会研究中心

[2] 清华大学科学技术与社会研究中心北京

来源：

关键词：

R&D; 基础研究; 投入强度; 发展轨迹;

D O I：

10.16192/j.cnki.1003-2053.2003.02.009

中图分类号：

G301 [科学学];

学科分类号：

1201 ; 1204 ;

摘要：

分析了三种类型国家的R&D和基础研究强度的发展轨迹 ,指出其类S曲线特征 ,1 0 %和 2 5 %是R&D强度S曲线上的两个拐点 ,而 8%和 15 %是基础研究强度S曲线上的两个拐点。此结果颇有启发意义。

引用

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