REDUCTION OF BEAM DAMAGE BY CRYOPROTECTION AT 4K

被引：22

作者：

DUBOCHET, J ^{[1
]}

KNAPEK, E ^{[1
]}

DIETRICH, I ^{[1
]}

机构：

[1] SIEMENS AG, FORSCHUNGSLAB, D-8000 MUNCHEN 83, FED REP GER

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/S0304-3991(81)80180-5

中图分类号：

TH742 [显微镜];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：77 / 80

页数：4

共 12 条

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