IN-SITU SPUTTER CLEANING OF THIN-FILM METAL SUBSTRATES FOR UHV-TEM CORROSION STUDIES

被引：11

作者：

HEINEMANN, K ^{[1
]}

POPPA, H ^{[1
]}

机构：

[1] NASA, AMES RES CTR, MOFFETT FIELD, CA 94035 USA

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1973年 / 10卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.1317948

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：22 / 25

页数：4

共 6 条

[1]

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