ATMOSPHERIC-PRESSURE H2-F2 LASER INITIATED BY ELECTRON-BEAM IRRADIATED DISCHARGE

被引：7

作者：

HOFLAND, R ^{[1
]}

CHING, A ^{[1
]}

LUNDQUIS.ML ^{[1
]}

WHITTIER, JS ^{[1
]}

机构：

[1] AEROSP CORP,EL SEGUNDO,CA 90245

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/JQE.1974.1068402

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：781 / 781

页数：1

共 7 条

HOFLAND, R ;

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