PREPARATION AND PROPERTIES OF AMORPHOUS SILICON

被引：316

作者：

CHITTICK, RC

ALEXANDE.JH

STERLING, HF

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2411779

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：77 / &

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共 5 条

[1]

ADIROVICH EI, 1964, SOV PHYS DOKL, V9, P296

[2] STRUCTURE OF AMORPHOUS SILICON FILMS [J].

COLEMAN, MV ;

THOMAS, DJD .

PHYSICA STATUS SOLIDI, 1967, 24 (02) :K111-&

[3]

GRIGOROVICI R, 1967, THIN SOLID FILMS, V1, P343

[4]

Jonscher AK., 1967, THIN SOLID FILMS, V1, P367, DOI [10.1016/0040-6090(68)90026-6, DOI 10.1016/0040-6090(68)90026-6]

[5] CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION PROMOTED BY RF DISCHARGE [J].

STERLING, HF ;

SWANN, RCG .